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第452章 光刻机（第1页）

想要进入研究院的车间。

那复杂程度不亚于西天取经。

防护服得穿上。

然后风吹，将身上的尘埃都吹掉。

在经过紫外线照射等等环节。

从准备到进入，差不多要花上一个多小时。

没办法，光刻机对于室内清洁度要求实在是太高了。

光刻机说白了就是通过一系列的光源能量、形态约束，将光束投射到画有电路图的掩膜。

再经过光学补偿，将电路图成比例缩小投射到硅晶片，最后通过化学方法显影，得到刻在硅晶片上的电路图。

如此，光刻机在工作中最重要的当然是光了。

光在哪里传播呢？自然是空气。

这也就是为什么光刻机的工作环境要求非常高的洁净度。

哪怕是一点灰尘，都能将生产出来的芯片直接报废。

现在91年，光刻机的精密度还没有那么高。

这台从阿斯麦过来的机器，还远远没有达到后世的7纳米，甚至5纳米。

所以，对车间的要求在当下看起来是非常高，但自己人还是能搞一搞。

等到后世就坏菜了。

光刻机的精密度提高，对环境的要求更加苛刻和变态。

在国际上通用标准来说，手术室的要求的环境是ISO5级。

这也是常人能接触到最干净的环境了。

但是，芯片生产因为特别精细。

极其微小的杂质都会影响产品的质量。

所以，在后世，生产芯片的车间竟然要求ISO1级或者ISO2级的最高水平！

也就是每立方米的空气中，超过0。1UM大小的杂质，不能超过100粒。

这是什么概念？

打个比方说：如果西湖里面装满纯净水，你往里面撒一把盐，它就不合格了！

很是恐怖的要求！

简直让人无法想象，这么高要求，你靠人工打扫肯定是不行的。

人类每分钟会掉900多块死皮。

450个以上的细菌。

滴一滴汗，就会报废一批芯片！

注意是一批！而不是一个！